언론/보도자료

 당기는 힘을 잘 견딜 수 있는 강한 금속 나노선이 개발됐다.

나노선은 이름 그대로 지름이 nm(나노미터·10억분의 1m) 수준인 가느다란 선으로, 최근 이 소재를 전자기기와 바이오 분야 등에 적용하려는 연구가 활발히 진행되고 있다.

한국과학기술연구원(KIST)은 최인석 KIST 고온에너지재료연구센터 책임연구원팀과 김영근 고려대 신소재공학부 교수팀이 기존 금속 나노선 보다 당기는 힘에 강한 나노선을 개발했다고 15일 밝혔다.

KIST-고려대 공동연구팀이 개발한 금속 나노선의 모습(오른쪽). 니켈과 니켈-금 소재가 여러 층을 이루고 있다. 왼쪽은 일반적인 금속 나노선의 구조.

연구팀은 니켈(Ni)과 니켈-금(Ni-Au)이 번갈아 가며 층을 이루는 지름 200nm 짜리 나노선을 만들었다.

이 나노선의 인장강도(당기는 힘을 견디는 능력)는 현존 나노선 중 최고치인 7.4GPa로 측정됐다. 이는 같은 굵기의 니켈(Ni) 소재 나노선에서 측정한 값보다 5배 정도 높고, 일반적인 금속소재 나노선의 인장강도 보다는 약 10배 이상 높은 수치다.

이번 연구로 다층 구조를 갖는 나노선은 당기는 힘을 잘 견디지 못한다는 통념을 깬 것이다.

연구팀은 이 연구 결과가 금속소재의 초고강도화에 새 방향을 제시했다고 의의를 밝혔다.

이번 연구는 KIST 기관고유사업, 미래창조과학부 중견연구자지원사업(도약, 융합)으로 추진됐으며 연구 결과는 나노분야 학술지 '나노 레터스'(Nano Letters) 9일자 온라인판에 실렸다.

신선미 기자 sun@yna.co.kr

출처: http://www.yonhapnews.co.kr/bulletin/2016/05/14/0200000000AKR20160514020600017.HTML?input=1195m