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보유장비 조회
- 모델명 자기조직화 단분자막 도포기
- 제조사 우성하이백 대한민국
- 용도 Nano-imprint Lithography 공정 시 이형성을 향상시키기
- 사양 •Material: STS304Dimension: Ø 300×300 H•Upper flange- Shower head: 1/4”Ball valve- Hinge type(O-ring seal)•Bottom flange- Heater mount flange(8”Wafer, Max temperature : 300℃)- Vacuum port : NW40KF(Right angle manual type)
- 모델명 양극 알루미늄 산화 장치
- 제조사 주 글로셈 대한민국
- 용도 나노 패터닝을 위한 나노 템플레이트 제작
- 사양 Process bath(AAO)Operatiing Temperature: 2~50℃Accuracy < ±1℃양극과 음극간의 거리 조절 가능 (3~20cm)기포 제거 기능 / Teflon heaterProcess bath(Widening)Operatiing Temperature: RT~70℃Accuracy < ±1℃Process bath(Etching)peratiing Temperature: RT~70℃Accuracy < ±1℃Process Cup(AAO)Operatiing Temperature: RT~50℃Accuracy < ±1℃QDR bathOperatiing Temperature: RTN2, D.I gun
- 모델명 나노 임프린트 장비
- 제조사 V-SYSTEM 대한민국
- 용도 나노 사이즈의 패턴 형성
- 사양 - Stamp Size : Piece ~ Max.8”Mask Size- Substrate Size : Piece ~ Max.8”Wafer size- Travel in X, Y : ± 5mm stroke from center : Resolution:0.1um- Travel in theta:± 5°from center : Resolution: 0.0025°- Lamp & Lamp House: Uniformity : ± 4~6% @ 150mmResolution : 1um~2um(NUV mode)Intensity : 500W(20~25mW/㎠)
- 모델명 VULCAN-H81RD
- 제조사 (주)리드엔지니어링
- 용도 MEMS process
- 사양 - 사용가능온도 :~ 1100 ℃
- wafer size : 2~8"
- 공정장수 : 1~75장
- Film uniformity : ± 1 %
- 모델명 TegraPol-15
- 제조사 Struers(덴마크)
- 용도 시편 가공
- 사양 - LC-Display read-out for rpm
- Disc diameter : 200 dia.
- Rotational speed : 40 ~ 600 rpm
- Disc type : Magnetic
- Loading method : Individual and Total loading
- Rotational speed of specimen holder : 150 rpm
- Rotational direction : CW
- Force
Single specimens : 10~50 N
Specimen holders : 10~50 N x 3
Specimen holder diameter : 30 ㎜
- 모델명 STM6
- 제조사 Olympus Optical 일본
- 용도 시편 관찰
- 사양 - Manual stage- top side illumination- 배율 : 100 ~ 1000- manual stage : x, y translation 200mm- CCD camera with PC
- 모델명 STD2000
- 제조사 케이맥(주)(대한민국)
- 용도 산화막, 질화막 및 각종 포토리지스트 막의 두께 측정
- 사양 - Stage Size : 150 x 120mm(70 x 50mm Travel Distance)
- Measurement Range : 200Å~ 35㎛(Depends on Film Type)
- Spot size : 20㎛ Typically
- Measurement Speed : 0.5 sec/site Typically
- Application Areas : Polymers : PVA, PET, PP, PR ...
Dielectrics : SiO2, TiO2 ITO, ZrO2, Si3N4 ...
Semiconductors : Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS...
* Supporting up to 3 Layers
* Supporting Backside Reflection
- 모델명 RTP600S
- 제조사 KONIC system 대한민국
- 용도 금속, 산화막 열처리 Heat treatment, material anneal
- 사양 - Recommended steady state temperature :150℃ to 1100℃ on Si-Wafer- Maximum Temperature : 1200 ℃- Pyrometer temperature Reliability : < ± 1℃- Ramp-up rate : 1-150℃/s controllable- Cool-down rate : 1-70℃/s controllable- Temp. Uniformity : < ± 2℃ @ 1000C for 4 & 6 inch wafers- Vacuum Capability : 10E-3 Torr with pump- Standard process gases : N2, O2
- 모델명 RDT-250C
- 제조사 malcom(일본)
- 용도 Au wire bonding
- 사양 [Applicable Circuit Board]
- Up to 250(W)*330(D)*15(H) mm
[Heating Method]
- Upper-face : Extreme infrared radiation with hot air
- Lower-face : Extreme infrared radiation
[Cooling Method]
- Exhaust damper continuous operation by flowing air or N2 air
[O2 concentration in furnace (when using N2)]
- 100 ppm minimum
[Sample installation]
- Carrier system
- Mesh 형
[Temp. Accuracy]
- Room temp. ~80℃ : ±3℃ / 80℃~330℃ : ±2℃
[Measurement temp.\
- Room temp. ~ 330℃
[Measurement point]
- 6 points 이상
[Heater control Method]
- 자동모드 : 부부면 온도에 의한 자동 조절
- 수동모드 : 각 히터 온도 개별 조절
- 모델명 Raith ELPHY Plus
- 제조사 Raith(독일), Jeol(일본)
- 용도 나노패턴 형성
- 사양 - Accelerating Voltage : 0.3 to 30 ㎸
- Resolution : 100 ㎚
- Specimen stage : Notorized stage
Specimen movement
- X : 125 ㎜
- Y : 100 ㎜
- resolution : 1 ㎛
- Pattern generator : 2.6 ㎒ writing speed with 5 ns incresment
Integrated hierarchical GDS II CAD editor
Data import formats DXF, ASC II, CIF, etc
- 모델명 MUC-21
- 제조사 SPP(일본)
- 용도 EMS 반도체용 미세구조물 형성, Silicon Wafer 또는 Silicon On Insulator 식각
- 사양 - Wafer size: 8" wafer (compatible with 6" wafer)
- Uniformity: ≤ ±5% (across wafer & wafer to wafer)
- Selectivity Si:PR : ≥ 150:1
- 모델명 MT-550TV
- 제조사 Micro-Tec(일본)
- 용도 실리콘 웨이퍼, PCB, 세라믹 기판 등에 회로 인쇄 및 솔더 크림 인쇄
- 사양 Printing area : Max 250 x 250 mm
Screen Frame : 450x450mm, 550x550 mm
Suction : Ring blower and Ejector
Squeegee drive : AC servo motor with steel belt drive
Squeegee speed : 10~300mm/sec
Squeegee : Micro squeegee, Micro DB squeegee
Squeegee printing : Vertical air-float balance system
Printing Pressure control : Pneumatic Pressure control
Table repeatability : less than ± 0.005 mm
Camera : 2 ea
Positioning : Table X, Y, θ by manual
- 모델명 Model 4522
- 제조사 Kulicke & Soffa 이스라엘
- 용도 Au wire bonding
- 사양 - Wire diameter : 0.7mil(min) 18um(min)3mil(max) 76um(max)- Spool size : 2 inch (50.8mm)- Bonding area : 6”× 6”(152mm × 152mm)- Bonding time : Ball Bonding/Bumping 10-200mssingle point TAB 10-1000ms- Wire termination : Clamp/Tear : adjustable tail- Ball formation system : Negative Electronic Flame
- 모델명 microform 200
- 제조사 Technotrans 독일
- 용도 전해도금을 통한 Cu 배선 및 범프 형성
- 사양 - Temperature during operation : 20 ~ 70 ℃- Electrolyte tank : approx. 80 L- Process basin : approx. 22 L- 4inch wafer or 6inch wafer- Max pluse current 5A- Current display resolution 1mA- Output voltage 20V
- 모델명 MA6/BA6
- 제조사 SUSS microTec (독일)
- 용도 Photo-lithography process 용
- 사양 - substrate size : piece, 4, 6 inch
- Mask size : 5, 7 inch
- Top/Bottom side alignment
- λ: 350/405 nm
- 모델명 LEXT OLS3500
- 제조사 올림푸스 일본
- 용도 삼차원 측정, 명시야(컬러), 암시야, 미분간섭 관찰
- 사양 - Microscope Type : Confocal scanning lasermicroscope- Scan speed : 5 frame/sec- X-Y Resolution : 0.12 ㎛- Z drive Resolution : 0.01 ㎛ (built-in 5 nm scale)- Magnification : 120x ~ 14430x- Detection : PMT- Laser source(파장) : 408 nm- Z stage (stroke) : 100 mm- X-Y stage (stroke) : Max 100
- 모델명 GAMMA
- 제조사 SUSS microTec (독일)
- 용도 Photo-lithography process 용
- 사양 - Substrate Size : 6" to 8" round, 4" to 6" square
- Substrate Handing : Fully automatic, open cassette
- Substrate Processing : Fully programmable random access cluster
- Spin Speed control : ±1 rpm
- Coater # of Dispense Lines : 4 standard
- 모델명 FSM 128
- 제조사 FSM (미국)
- 용도 Film stress 특성분석
- 사양 - Measures 3" to 8" diameter wafers either bare or patterned
- 8000 Point Scan on 200mm Wafer in < 10s with 1 Sigma Repeatability
- 모델명 ESE Lab Series
- 제조사 이노맥(대한민국)
- 용도 습식 식각
- 사양 [Chamber]
- Size : 6 / 8 inch
- Single chamber : 3가지 chemical 사용
-One-shot drain & recycle : Bottle Use
- Pre-Flushing port : 각각의 Run & chemical 마다 선택적 사용
[Chuck]
- Size : 6 / 8 inch
- Vacuum check : Vacuum 압력 이상 발생 시 RUN Stop
- RPM : Up to 5000 rpm
- Auto centering : wafer manual loading 시 auto centering 후 Run
- No wafer interlock : wafer 감지 system
[Dispenser]
- 3 chemicals 3chemicals 외 DI rinse, N2 dry dispenser : total 5 dispensers
- Non-drip function
- Motion Profile : GUI를 이용하여 Motion 설정0
[Chemical supply unit]
- Chemical 1 :
90℃±1 Through Heat exchanger
FF-10BT IWAKI PUMP FOR CIRCULATION
Filter housing
- Chemical 2:
50℃±1 Through Heat exchanger
FF-10BT IWAKI PUMP FOR CIRCULATION
Filter housing
- Chemical 3:
FF-10BT IWAKI PUMP FOR CIRCULATION
Filter housing
- Waste Tank : 20L PP bottle x3, overflow interlock
- 모델명 DFD 6340
- 제조사 Disco(일본)
- 용도 웨이퍼 절삭
- 사양 - Work Piece Size ∅8"
- Feed Axis (X) : 210 mm
- Indexing Axis (Y) : 210 mm
- Cut Depth Axis (Z) : Max. 19 mm
- Rotary Axis (θ) : 380 degree
- 모델명 DELTA 80T
- 제조사 SUSS microTec (독일)
- 용도 Photo-lithography process 용
- 사양 - Max speed : 6 inch (3,000 RPM)
4 inch (5,000 RPM)
- Substrate size : 3, 4, 6 inch
- 모델명 DAD522
- 제조사 Disco 일본
- 용도 웨이퍼 절삭
- 사양 - Work Piece Size(X * Y) : 220mm * 160 mm- Feed Axis (X) : 325 mm- Indexing Axis (Y) : 162 mm- Cut Depth Axis (Z) : Max. 27.2 mm- Rotary Axis (θ) : 380 degree
- 모델명 BMR's HiDepTm
- 제조사 BMR(미국)
- 용도 SiO2, Si3N4, Poly Silicon 증착
- 사양 - 사용 gas : SiH4, N2, Ar, O2, H2, CF4
- 지원 공정 : SiO2, Si3N4, PolySi
- 사용 가능 온도 : 50 ~ 400 ℃
- Wafer size/ 공정 장수 : 4“, 6”, 8" wafer / 1 장
- Temperature uniformity : ±1 ℃
- Film uniformity : ±2%
- 모델명 ASEHR
- 제조사 STS(영국)
- 용도 MEMS 용 미세구조물 형성, Si, 금속막 등의 에칭
- 사양 - Mask material : resist(>2.5um)
- Etch Depth : <10um
- Wafer Size / Material : Up to 100mm Si
- Etch Rate : > 0.25 um/min
- Uniformity : < ± 5%
- Repeatability : < ± 3%
- Selectivity over Mask : > 4 : 1
- Profile Control > 88 deg
- Max. Aspect Ratio : < 4:1
- Sidewall Roughness < 100nm
- 모델명 AOEHR
- 제조사 STS(영국)
- 용도 MEMS 용 미세구조물 형성, 산화막 , 질화막 에칭
- 사양 - Mask material : silicon(>2um)
- Etch Depth : <10um
- Wafer Size / Material : Up to 100mm Si
- Etch Rate : > 0.25 um/min
- Uniformity : < ± 5%
- Repeatability : < ± 3%
- Selectivity over Mask : > 15 : 1
- Profile Control > 89 deg
- Max. Aspect Ratio : < 5:1
- Sidewall Roughness < 100nm
- 모델명 ALPHA STEP IQ
- 제조사 KLA Tencor 미국
- 용도 박막의 두께 측정 및 표면 형상 관찰
- 사양 - Scan Length : 10mm- Scan speed : 2um/sec to 200um/sec- scan method : Bi-directional moving stylus stationarystage- Vertical Range/Resolution : 20 um/0.0119 Å,400 um/0.228 Å, 2 mm/1.19Å- Stylus Force : 1~100 mg manually adjustable- Variable image Magnification : 70-210 ×- Maximum sample Movement : X-Axis : 5.94in, Y-Axis: 3.15in, Theta : 360°- Maximum sample thickness : 0.82 in(21mm)- Maximum sample weight : 2.2 lbs(1kg)
- 모델명 4194A IMPEDANCE
- 제조사 HP(미국)
- 용도 재료 및 부품의 임피던스 측정
- 사양 - Test Frequency : 100 Hz~40 MHz
- DC Baise : 0 ~ ± 40V, 10mV resolution
- Baise mesurement accuracy 0.17%
- 모델명 3000D
- 제조사 마이다스 시스템(대한민국)
- 용도 Photo-lithography process 용
- 사양 - wafer chuck
- vacuum pump
- 최대 회전수 : 5,000 RPM
- substrate size : 5mm × 5mm ~ 6inch wafer
- recipe control : 24 recipe 내장 PCL
- 모델명 -
- 제조사 (주)에스엔텍(대한민국)
- 용도 금속 박막 증착(Au, Cu, Ni, Al, etc)
- 사양 - Process chamber Vacuum
: Ultimate pressure <1.0E-7 (within 24 in after target change)
: base pressure < 5.0E-7 (within 6 in after target change)
- 4, 6 inch wafer or 8 inch wafer
- within substrate < ± 10% (49 points)
- sputter down
- 7inch sputtering source
- 3 sources
- Substrate Rotation : 25 rpm
- Substrate Heating : Max. 300±3 ℃
- 모델명 -
- 제조사 BNP science
- 용도 Bio, MEMS 등 실리콘 웨이퍼와 유리 기판 웨이퍼를 접합하는 공정에 사용
- 사양 -Wafer : 4, 6 inch
-온도 : 0 ~ 500 ℃
-압력 : 1 ~ 10 kgf/cm2
- 모델명 -
- 제조사 BNP science
- 용도 실리콘 웨이퍼와 유리 기판 웨이퍼를 접합 시 패턴을 정렬할 때 사용되는 장비
- 사양 3. wafer : 4, 6 inch
4. Range : X (0 ~ 75 mm)
Y (0 ~ 50 mm)
Z (0 ~ 15 mm)
5. CCTV system
시험분석장비
- 모델명 XL 30 ESEM-FEG
- 제조사 PHILIPS 네덜란드
- 용도 고해상도의 재료 화학분석, 유기 및 무기재료 미세구조 분석,
- 사양 Wet mode 분해능 : 2.0nm(30 kV)Heating stage : 1,000 ℃, 1,500 ℃EDS : B5~U92
- 모델명 ESCA2000
- 제조사 VG microtech 대한민국
- 용도 극표면 조성분석, 박막의 깊이 방향, 원소분포 분석, 화학적 결
- 사양 1. X-ray source systemTwin anode Mg/AlAnode HV 0 - 15 ㎸Beam current 0 - 27 ㎃Filament current 0 - 5.0 AFocus 0-300 V (100 ㎂)2. Electron gun systemSpot size : < 200 ㎚ at 0.5 ㎁ currentAperture 250 ㎂ dia.Replaceable filament (tungsten)Electron beam gun power supply 10 ㎸Maximum target current 3 ㎂Beam energy 100 V - 10 ㎄Filament supply 0 - 4.0 at 6 V DC
- 모델명 EPMA 1600
- 제조사 Shimadzu 일본
- 용도 정성분석, 정량분석, 선분석, 면분석, CL분석
- 사양 X-ray spectrometer systemAnalyte elements : 5B ~ 92UNumber of spectrometers : 3 channel WDXX-ray takeoff angle : 52.5Analyzing crystals : LiF, ADP, PET, PbSTCL : 300 ㎚ ~ 900 ㎚
신뢰성시험장비
- 모델명 WK11-340/70
- 제조사 WEISS 독일
- 용도 온도 및 습도를 제어하여 제품의 수명평가 및 고장 유형 등을
- 사양 Volume : 340 litersTemp. : -70~180 ℃Heating rate : 3 ℃/min.Cooling rate : 2 ℃/min.이슬점 : -3~94 ℃
- 모델명 wk11-240/70
- 제조사 WEISS(독일)
- 용도 온도 및 습도를 제어하여 제품의 수명평가 및 고장 유형 등을 평가
- 사양 Volume : 340 liters
Temp. : -70~180 ℃
Heating rate : 3 ℃/min
Cooling rate : 2 ℃/min
이슬점 : -3~94 ℃
- 모델명 WK-340/40
- 제조사 WEISS(독일)
- 용도 온도 및 습도를 제어하여 제품의 수명평가 및 고장 유형 등을 평가
- 사양 Volume : 340 liters
Temp. : -40~180 ℃
Heating rate : 3 ℃/min
Cooling rate : 2 ℃/min
이슬점 : -3~94 ℃
- 모델명 Vibration tester
- 제조사 팜테크(대한민국)
- 용도 사용환경 및 운반 도중에 발생하는 진동 및 충격을 재현하여 그에 따른 내구성 평가
- 사양 Max. Sine force : 3,000 Kgf
Max. Randon Force : 3,000 Kgf
Max. Shock Force : 6,000 Kgf
Max. Displacement : 2 Inch P-P (51 mm P-P)
Max. Acceleration : 100g
Max. Velocity sine : 1.8m/s
Max. Payload : 500kg
Frequency Range : 5 ~ 3,000 Hz
Armature Weight : 30 Kg
Armature Resonance Hz: 2,400 Hz +/- 5%
Armature Diameter : 370 mm
- 모델명 VDS-2002
- 제조사 Noise Laboratory 일본
- 용도 전자기기기가 동작중에 전원설비의 이상이나 외부환경 등으로 제품에 순간적인 전압강하 및 순시정전 현상이 발생하였을때 제품의 고장재현
- 사양 Standard : IEC/EN 61000-4-11 Ed.2- Input voltage range :AC 100∼240V ± 10%Frequency 50/60 HzDC 0 ~ 125V- Output voltage range :AC 0 ~ Input Voltage +20%, AC290V MaxDC 0 or Input Voltage- Output current capability :AC 100% of input voltage : 16A rmsAC 70% of input voltage : 23A rmsAC 40% of input voltage : 40A rmsDC : 16A- Peak inrush current capability :AC100 ∼ 120V : 250A peakAC220 ∼ 240V : 500A peak- Dip cycle : Synchronous, Asynchronous- Dip phase : 0 ∼ 360°
- 모델명 TS 130
- 제조사 WEISS 독일
- 용도 시료에 급격한 온도변화를 인가하여 시료의 균열 및 이슬 맺힘,
- 사양 Type : elevator typeVolume : 130 litersTemp : -80~220 ℃Heating rate : 11 ℃/min.Cooling rate : 3 ℃/min.Changeover time : 5 sec.
- 모델명 SSE - 47TH
- 제조사 팜테크 대한민국
- 용도 사용환경 및 운반 도중에 발생하는 진동 및 충격을 재현하여 그에 따른 내구성 평가
- 사양 Max. Sine force : 3,000 KgfMax. Randon Force : 3,000 KgfMax. Shock Force : 6,000 KgfMax. Displacement : 2 Inch P-P (51 mm P-P)Max. Acceleration : 100gMax. Velocity sine : 1.8m/sMax. Payload : 500kgFrequency Range : 5 ~ 3,000 HzArmature Weight : 30 KgArmature Resonance Hz : 2,400 Hz +/- 5%Armature Diameter : 370 mm
- 모델명 SMX-160GT
- 제조사 Shimaudzu(일본)
- 용도 X-ray를 사용하여 BGA,MLCC,Flip,Chip 등의 시편을 파괴하지 않고 내부결함 및 유형을 관찰
- 사양 Tube Voltage : 160㎸
Focus size : 1㎛ 이하
2D + CT기능 : 영상화 처리
- 모델명 SE-CT-02
- 제조사 석산 대한민국
- 용도 온도 및 습도를 제어하여 제품의 수명평가 및 고장 유형 등을
- 사양 Volume : 150 litersTemp. : -70~150 ℃Humi. : 30~98% R.H
- 모델명 SC450
- 제조사 WEISS(독일)
- 용도 온도 및 습도를 제어하여 제품의 수명평가 및 고장 유형등을 평가
- 사양 Volume : 540 liters
Temp. : -75 ~180 ℃
Heating rate : 12 ℃/min.
Cooling rate : 2 ℃/min.
이슬점 : -3~94 ℃
- 모델명 PC-422R8D
- 제조사 HIRAYAMA(일본)
- 용도 온도, 습도, Bias 등을 인가하는 초가속 시험 장치로서 IC mold 균열, 밀봉손상, 변형, 부식, 절연저하 등의 특성관찰
- 사양 Temp. : 105~150 ℃
Humi. : 65~100 %
Pressure : 0.019~0.208 MPa
- 모델명 LSS_15AX_B1RB
- 제조사 Noise Laboratory 일본
- 용도 전원설비 및 통신설비를 통해서 제품을 파괴하는 낙뢰에 대한 내성을 테스트 하거나 고장재현
- 사양 Output surge waveform: 1.2/50㎲ + 8/20㎲ (Combination waveform)0.5㎲ - 100kHz (Ring wave)Maximum output voltage (current): 15kV/7500A (Combination wave)12kV/1000A (Ring wave)Output polarity : Positive or negativeSurge switching element : By ignitronOutput impedance: 2Ω(Combination wave)12Ω(Ring wave : when current limiting500A is selected.)30Ω(Ring wave : when current limiting200A is selected.)Surge coupling: Normal mode : 18㎌Common mode : 10Ω + 9㎌Coupling Mode: L1-PE, L2-PE, L1-L2, L2-L1, L1&L2-PE
- 모델명 FNS-AX3
- 제조사 Noise Laboratory 일본
- 용도 가정에서 흔히 사용되는 모터류 등에서 발생하는 전기적 빠른 과도현상이 제품에 미치는 영향을 확인
- 사양 Standard : IEC/EN 61000-4-4 Ed.2Output voltage : 200 ∼ 4800V
Output polarity : Positive or negativeCoupling capacitor : 33㎋ / 10㎋
Pulse frequency : 0.1㎑ ~ 2㎒Burst duration 1~1000 pulsesBurst period : 10ms ~ 1000ms
- 모델명 ESS-2000AX
- 제조사 Noise Laboratory (일본)
- 용도 일상생활에서 빈번히 발생하는 정전기에 대한 제품들의 내성을
- 사양 Standard
: IEC/EN 61000-4-2 & ISO 10605 ed.2-2008
Output voltage : 0.2 ∼ 30kV
Output polarity : Positive or negative
Normal discharge interval : 0.1s step
Discharge mode : Air / Contact mode
Gun for ISO 10605 Ed.2.0 :
Capacitor / Resistor Unit 150pF-330Ω, 1pc
Capacitor / Resistor Unit 330pF-330Ω, 1pc
- 모델명 540 FCH 80 4
- 제조사 Servathin 프랑스
- 용도 온도 및 습도를 제어하여 제품의 수명평가 및 고장 유형 등을
- 사양 Volume : 540 litersTemp. : -75 ~ 180 ℃Heating rate : 12 ℃/minCooling rate : 8 ℃/minHumi. : 10 ~ 98 % R.H.
- 모델명 120 CTR/4
- 제조사 CLIMATS 프랑스
- 용도 시료에 급격한 온도변화를 인가하여 시료의 균열 및 이슬 맺
- 사양 Type : elevator typeVolume : 120 litersTemperature Range- Hot Chamber : from +50/ +220℃- Cold Chamber : from -80/ +180℃Heating Rate : 12℃/minCooling Rate : 3℃/minTemperature Accuracy- Hot/ Cold Chamber : ±1℃Changeover Time : ≤ 10sec
